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    CFD-TOPO

    CFD-TOPO is a feature scale evolution solver used to predict the transport, chemistry, etch and deposition of semiconductor materials on the microscopic scale. It enables prediction of three-dimensional topological evolution for multiple materials during thermal or plasma enhanced fabrication of electronic devices.

    Inductively Coupled Plasma Reactor

    Designed primarily for the Semiconductor industry, CFD-TOPO is a flexible, modular software package that can be operated as a stand-alone code, or coupled with CFD-ACE+ reactor scale models for an integrated multi-scale solution. Advanced capabilities of CFD-TOPO include:

    • Three-dimensional
    • Multiple materials and complex chemistries
    • Fast adaptive meshing
    • Fully integrated with CFD-ACE+
    • Fully commercialized and supported
    • Can be customized for a specific reactor or processes, for ease-of-use and accuracy

    ACE+ Suite modules

    ACE+ Suite comprises of the modules which can be used solely, coupled or in conjunction with complimenting software.

    • CFD-ACE+
    • CFD-FASTRAN
    • CFD-GEOM
    • CFD-TOPO
    • CFD-VIEW
    • CFD-VisCART
    • CFD-CADalyzer
    • SimManager

     

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    https://jp.esi-group.com/software-solutions/virtual-environment/cfd-multiphysics/ace-suite/cfd-topo
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